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       光譜分析儀是目前材料分析檢測的主要檢測手段，應(yīng)用在各個方面，那哪種更好呢？

       在光譜分析工作中，采用什么光源是提高光譜分析精密度和準(zhǔn)確度的關(guān)鍵所在。在經(jīng)典光譜分析工作中，根據(jù)分析對象采用火花光源、交流電弧或直流電弧光源。在特種對象分析中，如微區(qū)分析采用激光光源；逐層分析中采用輝光光源；對易揮發(fā)的痕量元素分析采用空心陰極光源等。這些光源在光譜分析工作中，都是為某種分析物體或某些分析元素采用所采用的不同分析手段。在金屬冶煉廠為配合爐前分析，采用火花光源結(jié)合光電直讀光譜儀分析。這些光源和儀器，目前仍是光譜分析工作者的主要應(yīng)用手段，擔(dān)負(fù)著大量的分析任務(wù)。

       但是經(jīng)典光源光譜分析有許多局限性，尤其是對標(biāo)準(zhǔn)樣品的依賴性極大，因為經(jīng)典光譜法光源（電弧或火花）一般采用的標(biāo)準(zhǔn)樣品（或稱參比樣品）物理性質(zhì)、化學(xué)組成與分析樣品必須一致，對于原子發(fā)射光譜一般還必須采用內(nèi)參比法（內(nèi)標(biāo)法），且內(nèi)標(biāo)元素的光譜化學(xué)性質(zhì)：沸點(diǎn)、離解能、電離能、原于量和化學(xué)反應(yīng)能力、以及內(nèi)標(biāo)線的激發(fā)能和波長等必須與分析元素及分析線相近。因此，往往由于沒有合適的標(biāo)準(zhǔn)樣品，不能確保分析質(zhì)量，常用光源存在著第三元素干擾和固體物理結(jié)構(gòu)的影響，元素同時測定的范圍也受到一定限制，往往一套標(biāo)準(zhǔn)樣品只能測定一種牌號的合金，在實(shí)際工作中不可能有大量的標(biāo)準(zhǔn)樣品，尤其是配合材料研究分析，材料元素和元素成分都不定型，更無標(biāo)準(zhǔn)可用。

真空型直讀光譜儀的鑄造廠應(yīng)用

       ICP光源對以上弊病似乎都可以解決。它可以用基準(zhǔn)物質(zhì)經(jīng)過適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)處理，可配制成所需要的不同元素和不同濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液；同時ICP光源還具有以下分析特點(diǎn)：檢出限低；測量的動態(tài)范圍寬；準(zhǔn)確度好；基體效應(yīng)小；精密度高；曝光時間短；原子發(fā)射光譜分析所具有的多元素同時分析的特點(diǎn)與其他分析方法逐個元素單獨(dú)測定相比，無論從效率的經(jīng)濟(jì)，技術(shù)等方面都具有很大的特點(diǎn)，這也是ICP原子發(fā)射光譜分析取得很大進(jìn)展的原因之一。

       但是個別元素，因為其譜線范圍問題，例如Sn，非真空儀器和一般ICP進(jìn)樣技術(shù)是無能為力的，所以ICP光譜儀也不能替代經(jīng)典光譜法。